Direktes selektives Schreiben von optischen Leitstrukturen

Die Nutzung von Licht zur Übertragung von Informationen und zum Messen von Zustandsgrößen gewinnt immer mehr an Bedeutung. Optische Verbindungen im WAN (Wide Area Network) und LAN (Local Area Network) sind gekennzeichnet durch hohe Übertragungsraten und aus unserem Alltag nicht mehr wegzudenken. Gerade bei der Datenübertragung liegen die wesentlichen Vorteile nicht nur in der hohen Übertragungsgeschwindigkeit, sondern auch in der Störsicherheit bei kritischer Umgebung sowie in der Potentialtrennung. Durch die zunehmende Dichte von Quellen elektromagnetischer Strahlung muss der Schutz vor Störungen frühzeitig bei der Entwicklung technischer Systeme berücksichtigt werden. Zunehmend wird Lichtwellenleitertechnologie auch auf Systemebene verwendet. Mit der hier vorgestellten Technik soll die Basis für ein Verfahren zur direkten und selektiven Erzeugung von lichtleitenden Strukturen auf metallischen, keramischen und polymeren Bauteiloberflächen auf Systemebene gezeigt werden.